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  • 商品名称: 超光滑基片
  • 商品编号: cp25-6-101
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材料:JGS1、康宁7980、贺利氏312等熔石英

折射率nd允许差值:±2×10-4

色散系数vd允许差值:±0.2%

光学均匀性:±2×10-6

应力双折射:2-5nm/cm

条纹度:C

气泡度:a0

光吸收系数:k2000.005cm-1

 

直径(mm

径厚比

光洁度(S/D

反射PV@λ=632.8nm

平行度

表面粗糙度Rqnm

交期

φ8-φ30

10:1

5-1

1/20λ

2”

0.2

7

φ30-φ60

10:1

5-1

1/20λ

2”

0.2

7

φ60-φ100

10:1

10-5

1/10λ

2”

0.2

7

 

超光滑基片具有极高的面形精度和极低的表面粗糙度,用作镀膜基板可获得最高的反射率和抗激光损伤阈值,可用在软X射线光学系统、紫外激光系统、高精度陀螺仪等高端光学设备中。

 

超光滑基片的材料通常为JGS1、康宁7980、贺利氏312等熔石英,也可以是微晶、单晶硅等材料,其外形尺寸或其他要求可根据客户要求定制,我们尤其擅长加工熔石英材质的超光滑基片,表面粗糙度Rq值达到0.2nm,光洁度最高能达到0级,有效口径大于90%。超光滑基片加工周期一般为5--7周,视具体要求及数量而定,请将你们的要求告诉我们,我们会在1个工作日内提供报价或回复。

关键词: 光学基片 超光滑