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  • 商品名称: 高损伤阈值基片
  • 商品编号: D160
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对材料的要求:

材料:康宁7980、贺利氏312等熔石英

折射率nd允许差值:±4×10-6

色散系数vd允许差值:±0.2%

光学均匀性:±2×10-6

应力双折射:2-5nm/c

技术指标:

(圆形)直径/(方形)对角线(mm

径厚比

光洁度(S/D

透射PV@λ=632.8nm

平行度

表面粗糙度Rqnm

通光口径

厚度公差(mm

交期

30-60

10:1

5-1

1/10λ

10”

0.2

90%

±0.05

7

60-150

10:1

5-1

1/6λ

10”

0.2

90%

±0.05

7

150-280

10:1

10-5

1/4λ

10”

0.3

90%

±0.05

8

加工方式:改进后的古典抛光

加工流程:粗磨→精磨→初抛→精抛→超抛

关键控制:磨料的选择及不同磨料的去除量控制

 

高损伤阈值基片表面达到超光滑水平,同时具有极低的亚表面损伤,超高的抗激光损伤阈值,适用于高强激光系统。经过蚀刻检测,高损伤阈值基片的表面几乎不存在抛光水解层和亚表面缺陷,残留的抛光应力极小、抛光杂质极少,蚀刻前后面形精度、光洁度级表面粗糙度变化量极小。