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φ30超光滑基片

面形精度高、超光滑表面、抗激光损伤阈值高
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产品详情

特征:面形精度高、超光滑表面、抗激光损伤阈值高

应用领域:X射线探测器、软X射线显微镜、软X射线投影光刻机、紫外激光器、紫外激光打标机、激光陀螺等。

 

对材料的要求:

材料:JGS1、康宁7980、贺利氏312等熔石英及微晶、晶体等

折射率nd允许差值:±2×10-4 

色散系数vd允许差值:±0.2%

光学均匀性:±2×10-6

应力双折射:2-5nm/cm

条纹度:C

气泡度:a0

光吸收系数:k2000.005cm-1

技术指标:

直径(mm

径厚比

光洁度(S/D

反射PV@λ=632.8nm

平行度

表面粗糙度Rqnm

有效口径

尺寸公差(mm

φ8-φ30

10:1

5-1

1/20λ

2”

0.2

90%

±0.05

φ30-φ60

10:1

5-1

1/20λ

2”

0.2

90%

±0.05

关键词:
超光滑光学元件
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